یکی از روش های موفق در حذف مقادیر اندک H2S از گاز طبیعی تلفیق فرآیندهای جذب (Absorption) و جذب سطحی (Adsorption) است. برای نیل به این هدف از ذرات سیلیکاژل آغشته به حلالNMP استفاده می شود که دارای قدرت جذب بسیار بالایی می باشند. با استفاده از نتایج آزمایشی جذب H2S در این گونه جاذب ها، در این مقاله سعی شده است تا نحوه توزیع NMP در درون حفره ها و مکانیسم انتقال جرم در درون حفراتی که حاوی سیال دو فازی گاز-NMP می باشند، تعیین گردد.
در این مقاله نشان داده شده است که به صورت یک سیال غیر خیس کننده در درون NMP حفره ها قرار می گیرد. نفوذ H2S در درون حفره ها (Pore Diffusion) نیز به عنوان مکانیسم کنترل کننده انتقال جرم شناخته شد. مدل ساختاری-سینتیکی فوق می تواند ظرفیت بالای جذب H2S در این جاذب ها را به خوبی توضیح دهد. همچنین رفتار متفاوت و معکوس بستر جذب در مورد جاذب هایی با NMP کمتر از ۱۰ درصد وزنی نیز توجیه شده است.
کلمات کلیدی: جذب سطحی، Pore Diffusion، سیلیکاژل، NMP ،H2S